ZnO-Bi2O3系アレスタ素子の熱処理と粒界物性 -微分C-V法によるドナー密度分布測定-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-013

グループ名: 【全国大会】平成31年電気学会全国大会論文集

発行日: 2019/03/01

タイトル(英語): Relationship between Heat-Treatments and Grain Boundary Properties on ZnO-Bi2O3 Ceramics - Measurement of Donor Density Depth Profile Using Differential C-V Method -

著者名: 津田 孝一(日立製作所),三宅 純一郎(日立製作所),宮田 素之(日立製作所),島田 祐樹(日立製作所),綿引 聡史(日立製作所)

著者名(英語): Koichi Tsuda(Hitachi,Ltd.),Junichiro Miyake(Hitachi,Ltd.),Motoyuki Miyata(Hitachi,Ltd.),Yuki Shimada(Hitachi,Ltd.),Satoshi Watahiki(Hitachi,Ltd.)

キーワード: 避雷器素子,ZnO-Bi2O3,ドナー密度分布,熱処理温度,微分C-V測定,電圧-電流非直線係数

要約(日本語): ZnOアレスタ素子の熱処理温度と粒界物性の関係を調べ、粒界にできる二重ショットキー障壁の高さがV-I非直線係数αと深い関係があることを、既に報告した。 今回は、二重ショットキー障壁高さと密接に関係するドナー密度の空乏層内での深さ分布を微分C-V法で測定した。その結果、αが大きく低下する温度では、ドナー密度分布も大きく変化することを見出した。 微分C-V法はドナー密度分布を高感度で測定することができるので、ZnOアレスタ素子の劣化解明にも適用できる可能性がある。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 918 Kバイト