電子線照射直後における絶縁材料内の電子正孔対の生成量評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-031

グループ名: 【全国大会】令和2年電気学会全国大会論文集

発行日: 2020/03/01

タイトル(英語): Amount of electron-hole pair in insulating materials just after electron irradiation

著者名: 遠藤和樹（東京都市大学）,榎海星（東京都市大学）,久保亘平（東京都市大学）,三宅弘晃（東京都市大学）,田中康寛（東京都市大学）

著者名(英語): Kazuki Endo (Tokyo City University),Kaisei Enoki (Tokyo City University),Kohei Kubo (Tokyo City University),Hiroaki Miyake (Tokyo City University),Yasuhiro Tanaka (Tokyo City University)

キーワード: パルス静電応力法|空間電荷分布|宇宙機絶縁材料|電子線|電子正孔対|真空ギャップ|パルスセイデンオウリョクホウ|クウカンデンカブンプ|ウチュウキゼツエンザイリョウ|デンシセン|デンシセイコウツイ|シンクウギャップ

要約(日本語): 宇宙機材料の絶縁特性評価の為、パルス静電応力(pulsed electroacoustic : PEA)法を用いて、電子線照射材料の電子正孔対生成量の評価を電子線照射15分以降に大気圧環境下で行ってきた。そこで、本研究では電子正孔対が最大だと考えられる照射直後に着目し、生成量の評価を試みた。その際に、試料に接触させた電極からの注入電荷により正確な生成量評価ができないといった問題が生じた。そこで、試料上方に金属箔を設置し、真空ギャップを介して電界印加を行うことで、電極からの電荷の注入を防ぐ新たな測定方法を提案し、その測定を試みた。その結果、電圧印加直後から試料内に負電荷、試料/真空ギャップ界面に正電荷が蓄積され、電子正孔対を観測することができた。

本誌掲載ページ: 35-36 p

原稿種別: 日本語