Co-Fe-B薄膜における磁化ダイナミクスの下地層による影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-095

グループ名: 【全国大会】令和2年電気学会全国大会論文集

発行日: 2020/03/01

タイトル(英語): Influence of Underlayer on Magnetization Dynamics in Co-Fe-B Thin Films

著者名: 田中治憲（東北大学）,NguyenThi Van Anh（東北大学）,宮崎孝道（東北大学）,遠藤恭（東北大学）

著者名(英語): Harunori Tanaka (Tohoku University),Thi Van Anh Nguyen (Tohoku University),Takamichi Miyazaki (Tohoku University),Yasushi Endo (Tohoku University)

キーワード: 磁化ダイナミクス|ダンピング定数|飽和磁気ひずみ|スピントロニクスデバイス|強磁性共鳴|ジカダイナミクス|ダンピングテイスウ|ホウワジキヒズミ|スピントロニクスデバイス|キョウジセイキョウメイ

要約(日本語): Co-Fe-B薄膜の磁化ダイナミクスに関する研究が盛んに行われている。スピントロニクスデバイスを創製するにあたり、磁化ダイナミクスの主要なパラメータの1つであるダンピング定数αについて理解することが重要である。これまでαに関する研究が多く行われてきたが、αと他の磁気パラメータとの関連性について言及したものはほとんどない。本研究では、Co-Fe-B薄膜における磁化ダイナミクスの下地層による効果を検討し、αと他の磁気パラメータとの関連性について議論する。 下地層がPtの場合、いずれの膜厚においてもαの値はTa下地層を用いた場合に比べて高くなった。飽和磁気ひずみλ_sは、下地層がTaの場合、λ_sは膜厚の増加にともない増加し、その後一定となった。下地層がPtの場合にはλ_sは膜厚によらずほぼ一定となった。また、いずれの下地層においても10 nm以下の薄い膜厚でλ_sが低下するとαが増加した。以上より、αとλ_sに関連性があることが示唆される。

本誌掲載ページ: 112-113 p

原稿種別: 日本語