電圧フィードバック制御回路の製作とその評価

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-016

グループ名: 【全国大会】令和2年電気学会全国大会論文集

発行日: 2020/03/01

タイトル(英語): Evaluation of the bias feedback control circuit for scanning probe microscope

著者名: 山田晃嵩（千葉工業大学）,土井敦史（千葉工業大学）,佐藤宣夫（千葉工業大学）

著者名(英語): Akitaka Yamada (Chiba Institute of Technology),Atsushi Doi (Chiba Institute of Technology),Nobuo Satoh (Chiba Institute of Technology)

キーワード: 電子回路|デンシカイロ

要約(日本語): 半導体デバイスに代表される微細加工技術では，加工線幅が100 nm以下にまで到達し，従来の半導体素子に比べて10倍以上の大幅な微細化が期待できる．小型化するほど半導体デバイスの高性能化に繋がることから，ナノ領域での計測技術は重要性を増している．今後，様々な半導体デバイスの微細化において，解析技術の需要も高まると考えられることから，ナノスケールでの観測・評価が重要となる．特に，観測精度を決定する要因の一つとなるフィードバック制御回路は，試料を安定かつ高速に観測するために必要不可欠である．本研究では，走査型プローブ顕微鏡によるナノスケール観測の精度向上のため，新たに電圧フィードバック制御回路を作製し，その周波数特性による評価を行った．

本誌掲載ページ: 22-23 p

原稿種別: 日本語