珪砂-高分子円筒併用時の直流アーク抵抗上昇要因の分析-PMMA円筒，内径2 mm条件-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-025

グループ名: 【全国大会】令和2年電気学会全国大会論文集

発行日: 2020/03/01

タイトル(英語): Rising Factors for DC Arc Resistance in Silica Sand Equipped with PMMA Cylinder -Inner Diameter of 2 mm-

著者名: 中村晃也（名古屋大学）,兒玉直人（名古屋大学）,高橋明里（名古屋大学）,横水康伸（名古屋大学）,近藤祐介（太平洋精工）

著者名(英語): Koya Nakamura (Nagoya University),Naoto Kodama (Nagoya University),Asato Takahashi (Nagoya University),Yasunobu Yokomizu (Nagoya University),Yusuke Kondo (Pacific Engineering Corporation)

キーワード: 直流アーク|アーク抵抗|ヒューズ|チョクリュウアーク|アークテイコウ|ヒューズ

要約(日本語): 電気自動車用DCヒューズの遮断容量の向上が求められている。我々は，これまでに，珪砂に加えて高分子材料製円筒の配置によって，DC遮断過程でのアーク抵抗を上昇できることを示してきた。本報告では，DCアーク抵抗の上昇要因の分析として，高分子材PMMA，内径2mm条件の場合を述べる。DC遮断実験を行い，その結果を検討したところ，今回の条件においては，電流の増加過程ではアーク径制限効果が弱まることによってアーク抵抗が低下してしまうが，その後の電流増加過程では高分子の溶発蒸気による電子密度の低減効果によって，アーク抵抗が高まることが予想された。

本誌掲載ページ: 33-34 p

原稿種別: 日本語