キャビテーションプラズマ発生に及ぼす高導電率溶液温度の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-078

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Effect of High Conductivity Solution Temperature on Cavitation Bubble Plasma Generation

著者名: 岡田翔（兵庫県立大学）,上田唯人（兵庫県立大学）,森岡慧（兵庫県立大学）,岡好浩（兵庫県立大学）,上野秀樹（兵庫県立大学）

著者名(英語): Sho Okada (University of Hyogo),Yuito Ueda (University of Hyogo),Kei Morioka (University of Hyogo),Yoshihiro Oka (University of Hyogo),Hideki Ueno (University of Hyogo)

キーワード: キャビテーションプラズマ|液中プラズマ|キャビテーション気泡|導電率|低温プラズマ|連続放電|Cavitation bubble plasma|Liquid plasma|Cavitation bubble|Conductivity|Low temperature plasma|Continuous discharge

要約(日本語): キャビテーションプラズマ(CBP)は液中プラズマの一種であり、分散剤を使用することなく疎水性粉体を水に分散させることができる。導電性の紛体を分散させると懸濁液の導電率が高くなるため、高い処理効率の実現には高いプラズマ発生率の維持が必要である。CBPは一度プラズマが生成されると、パルス電圧を印加する毎にプラズマの発生と消滅を連続的に繰り返すことが知られており、高導電率溶液温度が放電起点数および放電連続回数に及ぼす影響について調査した。溶液温度が30 ℃のとき、放電起点数は135点、放電連続回数は117回であ

原稿種別: 日本語

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