高繰り返し水素・メタン混合パルスグロー放電を用いた DLC 成膜における基板温度効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-106

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Effects of substrate temperature on DLC films prepared with a hydrogen/methane pulsed glow discharge plasma

著者名: 峯卓馬（兵庫県立大学）,菊池祐介（兵庫県立大学）,井岡克也（兵庫県立大学）,政井瞭平（兵庫県立大学）,八束充保（兵庫県立大学）

著者名(英語): Takuma Mine (University of Hyogo),Yusuke Kikuchi (University of Hyogo),Katsuya Ioka (University of Hyogo),Ryohei Masai (University of Hyogo),Mitsuyasu Yatsuzuka (University of Hyogo)

キーワード: DLC|高繰り返しナノ秒パルス|グロー放電|準大気圧プラズマ|DLC|high-repetition nanosecond pulsed|glow discharge|under sub-atmospheric pressure

要約(日本語): 高繰り返しH2/CH4パルスグロー放電プラズマを用いたDLC成膜における基板温度の効果を調査した。周波数30kHz一定にて基板温度を70~170℃まで上昇させると膜硬度は2倍以上に上昇し，ラマン分光から評価した膜中の水素含有量も低下した。一方，基板温度を205℃一定にして周波数を30~250kHzに変化させると，硬度は約15GPa一定で水素含有量もほぼ一定であった。これらの結果から，水素原子ラジカル照射による膜中の水素引き抜き効果が基板温度上昇で促進されたことが，膜質変化の主要因と考えられる。このような膜

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 333 Kバイト