DLC成膜用準大気圧He/CH4パルスプラズマ特性に及ぼす繰り返し周波数依存性の数値解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-108

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Numerical Analysis of Repetition-Frequency Dependence of Fundamental Properties of Nonthermal Sub-atmospheric Pressure He/CH4 Pulsed Plasmas for DLC Films Deposition

著者名: 藤田諒（千葉工業大学）,木村勇太（千葉工業大学）,小田昭紀（千葉工業大学）

著者名(英語): Fujita Ryo (Chiba institute of technology),Kimura Yuta (Chiba institute of technology),Oda Akinori (Chiba institute of technology)

キーワード: シミュレーション|大気圧プラズマCVD|非平衡準大気圧プラズマ|パルスプラズマ|DLC膜|Simulation|Atmospheric-pressure plasma enhanced chemical vapor deposition|Non-equilibrium sub-atmospheric-pressure plasmas|Pulsed plasmas|Diamond-like carbon films

要約(日本語): 近年，ダイヤモンドライクカーボン(DLC)膜の成膜手法の一つに，大気圧プラズマCVD法が注目されている。本手法は成膜速度の高速化，低コスト化が図れるが，プラズマの熱化や膜の低硬度化が課題となっている。この課題に対し，高エネルギーの炭化水素系イオンの入射が膜の高硬度化に寄与することが報告されている。先行研究では，準大気圧下で高繰り返し周波数のパルス電圧印加で膜の高硬度化，成膜速度の向上が報告されているが，その成膜メカニズムは明らかになっていない。 本研究では，準大気圧He/CH4パルスプラズマの流体モデルに

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 352 Kバイト