レーストラック型Ar/N2誘導熱プラズマを照射したSi基板表面の窒化度の圧力依存性

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-109

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Pressure Dependence in Nitridation Degree Si Substrate Surface in Racetrack type Ar/N2 of Induction Thermal Plasmas

著者名: 杉山祐樹（金沢大学）,大関元紀（金沢大学）,原弘也（金沢大学）,田中康規（金沢大学）,中野裕介（金沢大学）,石島達夫（金沢大学）,幸本徹哉（シー・ヴィー・リサーチ）,川浦廣（シー・ヴィー・リサーチ）

著者名(英語): Yuki Sugiyama (Kanazawa University),Genki Ozeki (Kanazawa University),Hiroya Hara (Kanazawa University),Yasunori Tanaka (Kanazawa University),Yusuke Nakano (Kanazawa University),Tatsuo Isijima (Kanazawa University),Tetsuya Yukimoto (CV Research),Hiroshi K

キーワード: レーストラック型Ar/N2プラズマ|圧力|Si基板|窒化|Racetrack type Ar/N2 of Induction Thermal Plasmas|Pressure|Si Substrate|Nitridation

要約(日本語): 筆者らはこれまでにループ型誘導熱プラズマ（loop-ICTP）装置を開発し，誘導熱プラズマを用いた大面積表面処理の可能性を示してきた。更なる大面積処理を目的として，筆者らはレーストラック型誘導熱プラズマ装置を開発した。しかしその表面改質にする有用性・実用性は明らかではない。これまでの検討から，トーチ内圧力はラジカルの粒子束に影響すると考えられる。そこで本検討では，Si基板を対象として本装置による表面窒化処理の圧力依存性を検討した。

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 232 Kバイト