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電子線照射直後におけるフッ素系絶縁材料内の電子正孔対生成量の評価

電子線照射直後におけるフッ素系絶縁材料内の電子正孔対生成量の評価

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-024

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Evaluation of the Amount of Electron-hole pairs in Fluorinated Polymers Immediately after Electron Beam Irradiation

著者名: 福原大輝(東京都市大学),遠藤和樹(東京都市大学),三宅弘晃(東京都市大学),田中康寛(東京都市大学)

著者名(英語): Daiki Fukuhara (Tokyo City University),Kazuki Endo (Tokyo City University),Hiroaki Miyake (Tokyo City University),Yasuhiro Tanaka (Tokyo City University)

キーワード: 空間電荷分布|パルス静電応力法|絶縁材料|電子線|電子正孔対|space charge distribution|pulsed electroacoustic method|insulating material|electron beam|electron-hole pairs

要約(日本語): 近年、宇宙機搭載機器の動作電圧の低電圧化傾向があり、これまで考慮する必要のなかった微小な帯電が機器の誤作動の原因となる可能性がある。そのため本研究では電位変動の要因の一つである電子正孔対による空間電荷分極に着目している。先行研究では電子線照射後にブロック層を挿入することで電極からの電荷注入を抑制し、大気圧下で直流電界とパルス電界を印加して空間電荷分布測定を行い電子正孔対の生成量評価を行ってきた。本研究では試料照射面側の電極を試料に接触させずに空間容量をブロック層とした電界印加法によって電子線照射直後に真空

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 376 Kバイト

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