電子線照射下におけるフッ素系絶縁材料の電荷蓄積挙動

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-025

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Charge Accumulation Behavior of Fluorinated Insulating Materials under Electron Beam Irradiation

著者名: 上田薫（東京都市大学）,榎海星（東京都市大学）,三宅弘晃（東京都市大学）,田中康寛（東京都市大学）

著者名(英語): Ueda Kaoru (Tokyo City University),Enoki Kaisei (Tokyo City University),Miyake Hiroaki (Tokyo City University),Tanaka Yasuhiro (Tokyo City University)

キーワード: 空間電荷分布|パルス静電応力法|電子線照射|絶縁材料|放電|space charge distribution|pulsed electroacoustic|electron beam irradiation|insulating material|electrical discharge

要約(日本語): 宇宙機表面に用いられる絶縁材料の電子線による帯放電現象が宇宙機の運用異常の一因となっている。そこで、我々は電子線照射による宇宙機表面絶縁材料の電荷蓄積特性に注目し、パルス静電応力法を用いて運用環境を模擬した宇宙機絶縁材料の帯電評価を行うため、試料に真空ギャップを介してパルス電圧を印加可能な電極構造を開発した。本研究では、電子線照射下においてフッ素系絶縁材料の空間電荷密度分布を測定し、電荷蓄積傾向の調査を行った。その結果、各絶縁材料において試料内への負電荷蓄積傾向及び蓄積量に差異が見られた。また、照射中に放

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 403 Kバイト