電界と複合層界面の方向が一致する場合の界面付近における電荷挙動測定Ⅱ

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-034

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Charge Behavior Measurement near the Interface Parallel to the Electric Field Ⅱ

著者名: 保子純一（豊橋技術科学大学）,川島朋裕（豊橋技術科学大学）,穂積直裕（豊橋技術科学大学）,村上義信（豊橋技術科学大学）,塩田裕基（三菱電機）,門脇和丈（三菱電機）

著者名(英語): Junichi Hoshi (Toyohashi University of Technology),Tomohiro Kawashima (Toyohashi University of Technology),Naohiro Hozumi (Toyohashi University of Technology),Yoshinobu Murakami (Toyohashi University of Technology),Hiroki Shiota (Mitsubishi Electric Corpo

キーワード: 界面|電荷挙動|電流積分電荷法|interface|charge behavior|current integral charge method

要約(日本語): 各種電力機器においては製造上の理由などから複合絶縁系がよく用いられるが、この複合絶縁系は絶縁体界面が電気的弱点となり易いため、界面が存在する複合層の電気的特性を把握することは重要である。本研究では、電界と複合層界面の方向が一致する場合の界面付近における電荷挙動測定を電流積分電荷法を用いて実施した。 界面が存在する複合層試料の方が単層試料より積分電荷量が大きくなる傾向が見られた。これは複合層試料における界面が電気的弱点として作用し、その界面に電荷がより多く蓄積・移動したためと考えられる。電流積分電荷法は低電

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 591 Kバイト