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Co-Fe-B薄膜におけるダンピング定数と飽和磁気ひずみのCo組成依存性

Co-Fe-B薄膜におけるダンピング定数と飽和磁気ひずみのCo組成依存性

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-089

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Effect of Co Composition on Damping Constant and Saturation Magnetostriction in Co-Fe-B Thin Films

著者名: 田中治憲(東北大学),宮崎孝道(東北大学),枦修一郎(東北大学),遠藤恭(東北大学)

著者名(英語): Harunori Tanaka (Tohoku University),Takamichi Miyazaki (Tohoku University),Shuichiro Hashi (Tohoku University),Yasushi Endo (Tohoku University)

キーワード: Co-Fe-B薄膜|ダンピング定数|飽和磁気ひずみ|動的磁気特性|Co-Fe-B Thin Films|Damping Constant|Saturation Magnetostriction|Dynamic Magnetic Properties

要約(日本語): Co-Fe-B薄膜はスピントロニクスデバイスに用いられており,重要なパラメータの1つであるダンピング定数(α)について盛んに研究が行われている.さらに,近年では高TMR比と高飽和磁気ひずみ(λs)をもつMTJ素子を利用した新規デバイスの開発が行われている.これらのデバイスを実現するためには,Co-Fe-B薄膜におけるαとλsについて詳細に理解する必要がある.したがって本研究では,CoxFe80-xB20薄膜におけるαとλsのCo

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 564 Kバイト

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