珪砂-高分子材併用時の直流アーク抵抗上昇効果の検討 −Silicone平板設置条件−

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-059

グループ名: 【全国大会】令和3年電気学会全国大会論文集

発行日: 2021/03/01

タイトル(英語): Consideration of Rising Effect of DC Arc Resistance by Arrangement of Silicone Plain in Silica Sand Filling Space.

著者名: 竹中湧（名古屋大学）,中村晃也（名古屋大学）,兒玉直人（名古屋大学）,横水康伸（名古屋大学）,山村直希（太平洋精工）

著者名(英語): Waku Takenaka (Nagoya University),Koya Nakamura (Nagoya University),Naoto Kodama (Nagoya University),Yasunobu Yokomizu (Nagoya University),Naoki Yamamura (Pacific Engineering Corporation)

キーワード: 直流ヒューズ|直流遮断|アーク抵抗|高分子材|DC fuse|DC interruption|Arc resistance|Polymer material

要約(日本語): 電気自動車用 DC ヒューズの遮断容量の向上が求められている。筆者らは，これまでに，珪砂-高分子材料(PA66,PMMA,Silicone)製円筒併設によってアーク抵抗を上昇できることを示してきた。さらに，アーク抵抗上昇要因として (i) 円筒孔壁によるアーク導電径の制限および (ii) 高分子蒸気混入によるアーク導電率の低下の 2 つを示してきた。本報では，高分子材(Silicone)を配置した条件での DC アーク消弧実験を行った。形状は平板型のものを用いた。ゆえに，(i) アーク導電径を制限する効果

原稿種別: 日本語

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