商品情報にスキップ
1 1

粉体ターゲットによる3元素混合薄膜の作製I

粉体ターゲットによる3元素混合薄膜の作製I

通常価格 ¥440 JPY
通常価格 セール価格 ¥440 JPY
セール 売り切れ
税込

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-085

グループ名: 【全国大会】令和4年電気学会全国大会論文集

発行日: 2022/03/01

タイトル(英語): Preparing of Three-elements Thin Films using Powder Targets I

著者名: 佐竹卓彦(崇城大学),大島多美子(佐世保工業高等専門学校),青木振一(崇城大学)

著者名(英語): Takahiko Satake (Sojo University),Tamiko Ohshima (National Institute Technology, Sasebo Coolege),Shin-ichi Aoqui (Sojo University)

キーワード: スパッタリング法|粉体ターゲット|薄膜|spattaring|powder target|thin film

要約(日本語): 本研究では酸化インジウム(In2O3),酸化ガリウム(Ga2O3),酸化亜鉛(ZnO)の混合粉末ターゲットを用いて,スパッタリング成膜によりIGZO薄膜をワンステップで作製する方法を提案する。作製した薄膜の特性を調べた結果,作製した薄膜の元素濃度比は,ターゲットとして用いた混合粉末の混合比により制御できることがわかった。

本誌掲載ページ: 110-111 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 353 Kバイト

販売タイプ
書籍サイズ
ページ数
詳細を表示する