DLC成膜用準大気圧He/CH4RF変調パルスプラズマ特性に及ぼす変調周波数依存性の数値解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-087

グループ名: 【全国大会】令和4年電気学会全国大会論文集

発行日: 2022/03/01

タイトル：DLC成膜用準大気圧He/CH₄RF変調パルスプラズマ特性に及ぼす変調周波数依存性の数値解析

タイトル(英語): Computational Study on Modulation-Frequency Dependence of Fundamental Properties of Nonthermal Sub-atmospheric Pressure He/CH₄ RF Modulation Pulsed Plasmas for DLC Films Deposition

著者名: 藤田諒（千葉工業大学）,木村勇太（千葉工業大学）,小田昭紀（千葉工業大学）

著者名(英語): Ryo Fujita (Chiba institute of technology),Yuta Kimura (Chiba institute of technology),Akinori Oda (Chiba institute of technology)

キーワード: シミュレーション|大気圧プラズマCVD|非平衡準大気圧プラズマ|Simulation|Atmospheric-pressure plasma enhanced chemical vapor deposition|Non-equilibrium sub-atmospheric-pressure plasmas

要約(日本語): 近年，ダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜の成膜法の一つに，大気圧プラズマCVD法が注目されている。低コストで高速成膜処理が可能といった特徴があるものの，アーク放電への転移，膜の低硬度化が課題となっている。DLC膜は，プラズマ中で生成された正イオンとラジカルの基板への入射比率の向上で高硬度になることが知られており，印加電圧波形の変調による粒子の入射量制御を通じた高硬度なDLC成膜を着想した。本報告では，準大気圧条件下でのパルス変調された炭化水素プラズマによるDLC成膜に着目し，流体モデルに基づくシミュレーションによって，パルス電圧の変調周波数が電極への炭化水素イオン種やラジカル種の入射量に及ぼす影響を解析した。

本誌掲載ページ: 112-113 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 523 Kバイト