ミストCVD法による光触媒材料酸化チタンの大気圧下成膜

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-055

グループ名: 【全国大会】令和4年電気学会全国大会論文集

発行日: 2022/03/01

タイトル(英語): Synthesis of Titanium Oxide Films for Photocatalyst Materials by Mist Chemical Vapor Deposition in Atmospheric Pressure

著者名: 加々山柊大（日本大学）,鈴木誠人（日本大学）,鈴木薫（日本大学）,松田健一（日本大学）,胡桃聡（日本大学）

著者名(英語): Shuta Kagayama (Nihon University),Masato Suzuki (Nihon University),Kaoru Suzuki (Nihon University),Ken-ichi Matsuda (Nihon University),Satoshi Kurumi (Nihon University)

キーワード: 酸化チタン|ミストCVD|titanium oxide|mist chemical vapor deposition

要約(日本語): 近年，ミスト化学気相成長（CVD）法という酸化物半導体の安定的な成膜方法が注目されている。この装置の最大の特徴は真空を必要とせず大気圧下における簡単な装置構成で成膜が可能な点である。我々は装置の開発を行い，酸化物半導体の作製を試みている。生成する酸化物半導体として，酸化チタンに着目した。酸化チタンはその結晶構造により光触媒としての性質を示す材料である。この光触媒反応は酸化チタンの広いバンドギャップに起因するが，主にこれは紫外線照射によって反応が生じるため，高効率化に向けて可視光応答型光触媒材料の開発が求められる。そこで本稿では可視光応答型光触媒材料を生成する前段階として，装置開発及びこれによる酸化チタンの成膜結果について報告する。

本誌掲載ページ: 60-61 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 382 Kバイト