真空アーク放電を用いたNd-Fe-B系磁石膜の作製

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-072

グループ名: 【全国大会】令和4年電気学会全国大会論文集

発行日: 2022/03/01

タイトル(英語): Preparation of Nd-Fe-B film magnets using vacuum arc discharge

著者名: 日笠山航也（長崎大学）,大塚鴻介（長崎大学）,山下昂洋（長崎大学）,柳井武志（長崎大学）,中野正基（長崎大学）,福永博俊（長崎大学）

著者名(英語): Higasayama Koya (Nagasaki University),Otsuka Kosuke (Nagasaki University),Yamashita Akihiro (Nagasaki University),Yanai Takeshi (Nagasaki University),Nakano Masaki (Nagasaki University),Fukunaga Hirotoshi (Nagasaki University)

キーワード: 真空アーク蒸着|Nd-Fe-B系磁石膜|ニック|vacuum arc deposition|Nd-Fe-B film magnets|knick

要約(日本語): スパッタリング法で作製したNd-Fe-B系磁石膜の「リニアモータ」や「エネジーハーベスト」への応用など，永久磁石の小型デバイスへの応用が期待されている。我々はPLD（Pulsed Laser Deposition）法で作製した250 μm厚Nd-Fe-B系磁石膜を用いて，超小型ステッピングモータを開発した。上記のPLD法では，真空雰囲気下で数～数10 μm径の磁石粒子を生成できる条件を用いており，5 mm角の基板面積において，スパッタリング法より速い成膜速度で小型磁石を作製できる点に特徴がある。ここでは，PLD法と同様，真空雰囲気下でNd-Fe-B系磁石粒子を生成でき，PLD法に比べ紫外線レーザなどの大掛かりな装置を必要としない真空アーク蒸着法に着目した。現状，5 mm角基板に作製した等方性Nd-Fe-B系磁石膜のヒステリシスループには2段化が生じ，PLD法で作製したループに比べ角形性が悪く，同等の，（BH）maxを得られていない。そこで本稿では，デバイス応用に向け，（BH）max値の向上を鑑みたNd-Fe-B系磁石膜の作製に取り組んだ。

本誌掲載ページ: 80-81 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 445 Kバイト