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DC 遮断における窒化ケイ素と珪砂の併用によるアーク抵抗上昇

DC 遮断における窒化ケイ素と珪砂の併用によるアーク抵抗上昇

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-022

グループ名: 【全国大会】令和4年電気学会全国大会論文集

発行日: 2022/03/01

タイトル(英語): Arc resistance rise during DC interruption using mixture powder of silicon-nitride and silica-sand

著者名: 兒玉直人(名古屋大学),横水康伸(名古屋大学),竹中湧(名古屋大学),長谷川海渡(名古屋大学)

著者名(英語): Naoto Kodama (Nagoya University),Yasunobu Yokomizu (Nagoya University),Waku Takenaka (Nagoya University),Kaito Hasegawa (Nagoya University)

キーワード: アーク|ヒューズ|アーク消弧媒体|直流遮断|Arc|Fuse|Arc quenching medium|DC interruption

要約(日本語): DC ヒューズ内で生じるアークの消弧媒体として,これまで珪砂(SiO2)が使用されてきた。一方で,筆者らはこれまでに,Cu アークに対して SiO2蒸気が混入することで,Cu/SiO2混合蒸気の抵抗率が低下することを見出している。更なるrarc 上昇のためには,珪砂に替わるDCアーク消弧媒体の開発が必要不可欠である。本報では,珪砂に替わる DC アーク消弧媒体として,窒化ケイ素(Si3N4)粉体を用いた。珪砂とSi3N4の併用条件でのDC遮断実験の結果から,珪砂とSi3N4の混合がrarcに与える影響を検討した。また,Si3N4/SiO2混合蒸気の熱伝導率の理論計算結果から,珪砂蒸気へのSi3N4蒸気混入がrarcに与える影響を検討した。

本誌掲載ページ: 25-26 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 865 Kバイト

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