キャビテーションプラズマ発生に及ぼす印加電圧パルス幅の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-063

グループ名: 【全国大会】令和5年電気学会全国大会論文集

発行日: 2023/03/01

タイトル(英語): Effect of Pulse width in Applied Voltage on Cavitation Bubble Plasma Generation

著者名: 中原健太（兵庫県立大学）,森岡慧（兵庫県立大学）,岡田翔（兵庫県立大学）,岡好浩（兵庫県立大学）,上野秀樹（兵庫県立大学）

著者名(英語): Kenta Nakahara (University of Hyogo),Kei Morioka (University of Hyogo),sho Okada (University of Hyogo),Yoshihiro Oka (University of Hyogo),Hideki Ueno (University of Hyogo)

キーワード: 液中プラズマ|キャビテーションプラズマ|パルス幅|入力エネルギー|In-liquid plasma|Cavitation bubble plasma|Pulse width|Imput energy

要約(日本語): キャビテーションプラズマは，減圧沸騰現象を用いて液中に気泡を発生させることで，効率的なプラズマの生成が可能である。これまでに，繰り返し周波数の増加に伴いプラズマ発生率が増加することがわかっており，さらなる高繰り返し化が期待される。しかしながら，低温プラズマの維持という観点から，更なる高繰り返し化のためには，パルスの重畳を避けるべく，短パルス化を検討する必要がある。そこで，本報告では，プラズマ発生率に及ぼすパルス幅の影響を調査した結果について述べる。プラズマ発生率は，1～0.8µsの間ではパルス

本誌掲載ページ: 78-79 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 392 Kバイト