陽子線描画による誘電体マイクロ構造の作製とフォトニックナノジェットの形成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-037

グループ名: 【全国大会】令和5年電気学会全国大会論文集

発行日: 2023/03/01

タイトル(英語): Dielectric Microstructures for Photonic Nanojets Fabricated by Proton Beam Writing

著者名: 戸邉惠斗（芝浦工業大学）,KosumsupamalaKunpisit（芝浦工業大学）,PuttaraksaNitipon（芝浦工業大学）,関宏範（芝浦工業大学）,西川宏之（芝浦工業大学）,辻諒比路（三重大学）,瀬谷大也（三重大学）,松井龍之介（三重大学）

著者名(英語): Keito Tobe (Shibaura Institute of Technology),Kunpisit Kosumsupamala (Shibaura Institute of Technology),Nitipon Puttaraksa (Shibaura Institute of Technology),Hironori Seki (Shibaura Institute of Technology),Hiroyuki Nishikawa (Shibaura Institute of Techno

キーワード: フォトニックナノジェット|集束陽子線描画|誘電体マイクロ構造|Photonic Nanojets|Proton Beam Writing|Dielectric Microstructures

要約(日本語): 環境中のナノスケールの粒子を可視化する技術として超解像技術があり，その一つとしてフォトニックナノジェット（PNJ）がある。円柱状の誘電体アレイ構造をポジ型レジストであるPMMA上にPBWによってガラス基板上に作製し，PNJの観察を目的とする。ガラス基板上にドーナツ状パターンを10×10のマトリクス状に照射した。PMMAはポジ型レジストであるため，照射部分が現像によって溶解し，円柱状の誘電体のアレイ構造が形成され，直径1.4mmの円柱構造の場合，約1割程度のパターンが倒壊したのに対して，直径2.

本誌掲載ページ: 39-40 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 470 Kバイト