結晶異方性ドライエッチングにおけるマイクロローディング効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-142

グループ名: 【全国大会】令和5年電気学会全国大会論文集

発行日: 2023/03/01

タイトル(英語): Microloading Effects in Crystal Anisotropic Dry Etching

著者名: 岩成優（兵庫県立大学）,横田隆人（兵庫県立大学）,横松得滋（兵庫県立大学）,神田健介（兵庫県立大学）,藤田孝之（兵庫県立大学）,前中一介（兵庫県立大学）

著者名(英語): Yu Iwanari (University of Hyogo),Takahito Yokota (University of Hyogo),Tokuji Yokomatsu (University of Hyogo),Kensuke Kanda (University of Hyogo),Takayuki Fujita (University of Hyogo),Kazusuke Maenaka (University of Hyogo)

キーワード: 結晶異方性エッチング|ドライエッチング|マイクロローディング効果|Crystal Anisotropic Etching|Dry Etching|Microloading Effects

要約(日本語): 結晶異方性ウェットエッチングは幅広く用いられるSiのプロセス技術であるが，我々の研究室ではレシピの調整によってDeep-RIE装置で結晶異方性ドライエッチングが行えることを見いだしており，シリコンへの漏斗型スルーホールの形成や表面テキスチャの生成などに応用してきた。本研究では，結晶異方性ドライエッチングの特性をより良く理解するため，結晶異方性ドライエッチングにおけるマイクロローディング効果（マスク開口面積の縮小に従いエッチング速度が低下する現象）の検証を行った。また，アスペクト比やアンダーカット量の条件に

本誌掲載ページ: 216-218 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 549 Kバイト