露光ギャップを許容する位相シフトマスク

カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-143

グループ名: 【全国大会】令和5年電気学会全国大会論文集

発行日: 2023/03/01

タイトル(英語): Phase-Shift Mask with Wide Exposure Gap Tolerance

著者名: 佐々木実（豊田工業大学）,田辺悠真（豊田工業大学）

著者名(英語): Minoru Sasaki (Toyota Technological Institute),Yuma Tanabe (Toyota Technological Institute)

キーワード: 位相シフトマスク|露光ギャップ許容|フォトリソグラフィ|Phase-Shift Mask|Exposure Gap Tolerance|Photolithography

要約(日本語): 超解像露光技術の1つである位相シフトマスクを活用し，マスクから10μm離れた位置でも幅0.87μmと，通常の白黒マスクで得られる2μmよりも微細なパターンが得られることを明らかにした。

本誌掲載ページ: 218-219 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 444 Kバイト