アクティブゲート駆動によるSiCMOSFETの放射EMIとスイッチング損失の低減
アクティブゲート駆動によるSiCMOSFETの放射EMIとスイッチング損失の低減
カテゴリ: 全国大会
論文No: 4-014
グループ名: 【全国大会】令和5年電気学会全国大会論文集
発行日: 2023/03/01
タイトル(英語): Reduction of Radiated EMI and Switching Loss of SiC MOSFETs Using Active Gate Driving
著者名: 青木ノエル(東京大学/東京工芸大学),堀井康平(東京大学),森川隆造(東京大学),畑勝裕(東京大学),諸熊健一(三菱電機),和田幸彦(三菱電機),大開美子(三菱電機),椋木康滋(三菱電機),高宮真(東京大学)
著者名(英語): Noel Aoki (The University of Tokyo/Tokyo Polytechnic University),Kohei Horii (The University of Tokyo),Ryuzo Morikawa (The University of Tokyo),Katsuhiro Hata (The University of Tokyo),Kenichi Morokuma (Mitsubishi Electric Corporation),Yukihiko Wada (Mits
キーワード: 放射EMI|スイッチングロス|ゲートドライバ|アクティブゲート駆動|SiC MOSFET|radiated EMI|switching loss|gate driver|active gate driving|SiC MOSFET
要約(日本語): 電力変換器におけるEMIとスイッチング損失(ELOSS)のトレードオフ関係を打破できる技術として,パワーデバイスのスイッチング時のゲート電流(IG)波形を制御するアクティブゲート駆動が注目されている。IGを時間領域でデジタル制御するTime-domainデジタルゲートドライバ(TD DGD)ICを用いて,ELOSSと放射EMIの両方を削減した報告がある。しかし,この報告では近傍磁界プローブを用いて測定した電圧波形をフー
本誌掲載ページ: 21-22 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 522 Kバイト
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