キャビテーションプラズマ処理水中のOHラジカル生成に及ぼす放電電極材質の影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-058

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Effect of Discharge Electrode Material on OH Radical Generation in Cavitation Bubble Plasma Treated Water

著者名: 川野宏太朗（兵庫県立大学）,岡好浩（兵庫県立大学）

著者名(英語): Kotaro Kawano (University of Hyogo),Yoshihiro Oka (University of Hyogo)

キーワード: 液中プラズマ|キャビテーションプラズマ|キャビテーションプラズマ処理水|金属ナノ粒子|過酸化水素|OHラジカル|In-liquid plasma|Cavitation bubble plasma|Cavitation bubble plasma treated water|Metal nanoparticles|Hydrogen peroxide|OH radical

要約(日本語): 液中プラズマの一種であるキャビテーションプラズマにより処理されたキャビテーションプラズマ処理水には過酸化水素および放電電極に起因する金属ナノ粒子・イオンが含まれている。これまでに，化学プローブ法により，キャビテーションプラズマ処理水においてOHラジカルが生成することが確認されているが，金属成分の影響は明らかになっていない。今回，WおよびFe電極を用いて処理水を作製し，化学プローブ法により試薬の蛍光強度からOHラジカル生成量の経時変化を調査した。3h後の蛍光強度は，Wを含む処理水のとき1500であるのに対して，Feのとき3700であった。Feを含む処理水のOH生成量増加はフェントン反応の影響ではないかと考えられる。

本誌掲載ページ: 73-74 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 270 Kバイト