マイクロ波プラズマを用いた真空中における帯電制御技術の検討

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-063

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Study of Charge Control Technology in Vacuum using Microwave Plasma

著者名: 小辻秀幸（日立製作所）,横須賀俊之（日立製作所）,川野源（日立ハイテク）

著者名(英語): Hideyuki Kotsuji (Hitachi, Ltd.),Toshiyuki Yokosuka (Hitachi, Ltd.),Hajime Kawano (Hitachi High-Tech Corporation)

キーワード: マイクロ波プラズマ|帯電制御|真空|Microwave Plasma|Charge control|Vacuum

要約(日本語): 電子顕微鏡（SEM）は，電子源や電界レンズ，ウェハステージの静電チャックなど高電圧となる多数の部品で構成されている。装置内部では撮像に用いる電子線の照射によるウェハ帯電が引き起こす像障害や静電破壊，高電圧部品においては長期課電に伴う帯電が引き起こす絶縁破壊など帯電起因の障害が課題となっている。上記課題に対して，プラズマによる除電，帯電制御手法について検討した。本研究では，帯電が課題となる直流高電圧機器向けの帯電制御技術の開発を目的として，プラズマ源に金属製のノズルを組合せることでプラズマ中の荷電粒子に対する外部電界の影響を制御するとともに，プラズマ源のバイアス電圧制御による帯電制御手法を検討した。

本誌掲載ページ: 78-79 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 309 Kバイト