タンデム型Ar変調誘導熱プラズマによるH2ガス導入を考慮したSiナノ粒子生成数値解析モデル構築

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-065

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Development of Numerical Thermofluid Model for Si Nanoparticle Synthesis using Tandem Modulated Induction Thermal Plasmas with Hydrogen Injection

著者名: 田中伶郎（金沢大学）

著者名(英語): Reo Tanaka (Kanazawa University)

キーワード: タンデム型変調誘導熱プラズマ|ナノ材料|H_2ガス導入|電磁熱流体解析|Tandem modulated induction thermal plasmas|Nanomaterial|Hydrogen injection|Numerical thermofuid study

要約(日本語): 本研究室では，これまでにタンデム型変調誘熱プラズマを用いたSiナノ材料大量生成法を開発している。筆者らは，従来のシースガスArに加えてH₂を導入することで，生成されるSi系ナノ材料の平均粒径を小さくできること，還元作用により酸素含有量を制御できることを見出している。本報では，シースガスAr90 L/minに加えH₂0.25 L/minを混合導入した数値解析モデルを構築し，同モデルを用いて下段コイル電流変調度SCL_lower（＝最小電流/最大電流）を0%，40%，80%，に変更した時の数値解析を行い，得られたガス温度分布，ナノ粒子の数密度分布からSiナノ材料生成への影響を検討した。

本誌掲載ページ: 80-82 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 343 Kバイト