高繰り返しナノ秒パルスAr/CH4グロー放電プラズマを用いたDLC膜の高速成膜
高繰り返しナノ秒パルスAr/CH4グロー放電プラズマを用いたDLC膜の高速成膜
カテゴリ: 全国大会
論文No: 1-080
グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集
発行日: 2024/03/01
タイトル:高繰り返しナノ秒パルスAr/CH4グロー放電プラズマを用いたDLC膜の高速成膜
タイトル(英語): High-speed preparation of DLC films using a high-repetition nanosecond pulsed Ar/CH4 glow discharge plasma
著者名: 玉越順也(兵庫県立大学),川口瑞稀(兵庫県立大学),原優斗(兵庫県立大学),菊池祐介(兵庫県立大学)
著者名(英語): Junya Tamakoshi (University of Hyogo),Mizuki Kawaguchi (University of Hyogo),Yuto Hara (University of Hyogo),Yusuke Kikuchi (University of Hyogo)
キーワード: ダイヤモンドライクカーボン|高繰り返しナノ秒パルスグロー放電プラズマ|高速成膜|Diamond-like carbon|High-repetition nanosecond pulsed glow discharge plasma|High-speed preparation
要約(日本語): ダイヤモンドライクカーボン(DLC)は高硬度や低摩擦性など優れた特性を持ち,高速成膜技術を確立して成膜コストを低減することで,より幅広い分野への適用が期待されている。本講演では,高繰り返しナノ秒パルスAr/CH4グロー放電プラズマを用いてDLCをSi基板に高速成膜した結果を報告する。実験ではプロセスガス圧力0.36kPa,電源周波数200~600kHzとし,基板温度約150℃にてプラズマ照射を行った。照射時間は各周波数で膜厚を約1 mmに揃えるため,5 ~ 15分とした。その結果,膜密度,膜硬度は電源周波数によらず,それぞれ約1.7 g/cm3,約12 GPaが得られ,成膜レートは周波数の増加とともにほぼ線形的に増加し,600 kHzで194nm/minが得られた。
本誌掲載ページ: 98-99 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 302 Kバイト
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