ナノ秒パルスコロナ放電を用いた線対平板型電気集じん装置における粒子軌道に対する直流成分の効果

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-089

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Effect of DC bias on particle trajectory in an electrostatic precipitator with nano-second pulsed corona discharge

著者名: 保坂華穂（神奈川工科大学）,安本浩二（神奈川工科大学）,瑞慶覧章朝（神奈川工科大学）,山口陸（岩手大学）,高橋克幸（岩手大学）

著者名(英語): Kaho Hosaka (Kanagawa Institute of Technology),Koji Yasumoto (Kanagawa Institute of Technology),Akinori Zukeran (Kanagawa Institute of Technology),Riku Ysmsguchi (Iwate University),Katsuyuki Takahashi (Iwate University)

キーワード: 電気集じん装置|粒子軌道|ナノ秒パルス|粒子軌道流速測定法|electrostatic precipitator|particle trajectory|nano-seond pulse|Particle Image Velocimetry

要約(日本語): 線対平板型電機集じん装置（ESP）にナノ秒パルス高電圧を印加し，粒子軌道に対する直流バイアス成分の効果を粒子画像流速測定法（PIV）を用いて検討した。その結果，直流成分を重畳させることによって接地電極方向へ粒子の速度が速くなることが分かった。これは，パルス電圧印加後の直流バイアス電圧の効果により，イオンが空間全体へ広がり，帯電した粒子数の割合が大きくなるとともに，帯電粒子に静電気力が常にはたらくからである。このことは，集じん率の向上につながると考えられる。

本誌掲載ページ: 107-109 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 593 Kバイト