エポキシ系ネガ型レジストを用いたマイクロ構造によるフォトニックナノジェットの形成

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-048

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Microstructures of Epoxy-Based Negative-Tone Resist for Photonic Nanojet Formation

著者名: 架谷直毅（芝浦工業大学）,佐野太一（芝浦工業大学）,戸邉惠斗（芝浦工業大学）,KosumsupamalaKunpisit（芝浦工業大学）,PuttaraksaNitipon（芝浦工業大学）,関宏範（芝浦工業大学）,西川宏之（芝浦工業大学）,堀田陸人（三重大学）,辻諒比路（三重大学）,松井龍之介（三重大学）

著者名(英語): Naoki Hasatani (Shibaura Institute of Technology),Taichi Sano (Shibaura Institute of Technology),Keito Tobe (Shibaura Institute of Technology),Kosumsupamala Kunpisit (Shibaura Institute of Technology),Nitipon Puttaraksa (Shibaura Institute of Technology),

キーワード: フォトニックナノジェット|陽子線描画|photonic nanojet|proton beam writing

要約(日本語): フォトニックナノジェット（PNJ）は超解像度顕微鏡やナノリソグラフィーへ応用することが期待されている。先行研究では陽子線描画装置（PBW）で作製したポジ型レジストであるPMMA円柱構造においてPNJの発生が実験的に確認されている。本研究ではネガ型レジストであるSU-8マイクロ円柱からのPNJの実験的確認を目的とする。ガラス基板上にSU-8を成膜し，PBWによって直径2-5 µmの円柱を10×10のアレイ状に作製した。この試料を形状評価したところ概ね設計通りの大きさであった。また，PNJの発生を確認することができ，直径の増加に伴いPNJの幅と長さが増加することを確認した。今後は円柱の高さ等を変化させた際のPNJ変化についても確認する予定である。

本誌掲載ページ: 53-54 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 282 Kバイト