PLD法により作製した厚膜磁石の膜厚分布低減
PLD法により作製した厚膜磁石の膜厚分布低減
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-105
グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集
発行日: 2024/03/01
タイトル(英語): Improvement in thickness distribution of PLD-made thick-film magnets
著者名: 田原楽飛(長崎大学),東倖主(長崎大学),福田樹(長崎大学),山下昂洋(長崎大学),柳井武志(長崎大学),中野正基(長崎大学),福永博俊(長崎大学)
著者名(英語): Gakuto Tahara (Nagasaki University),Kosuke Higashi (Nagasaki University),Itsuki Fukuda (Nagasaki University),Akihiro Yamshita (Nagasaki University),Takeshi Yanai (Nagasaki University),Masaki Nakano (Nagasaki University),Hirotoshi Fukunaga (Nagasaki Univer
キーワード: PLD法|ガルバノミラー|Nd-Fe-B系磁石膜|保磁力|膜厚分布|Pulsed Laser Deposition method|galvanometer mirror|Nd-Fe-B film magnets|coercivity|thickness distribution
要約(日本語): これまで我々は,PLD(Pulsed Laser Deposition)法を用い作製した厚膜磁石を,DCブラシレスモータやステッピングモータへ搭載し,各モータの小型化への展開を図ってきた。その厚膜磁石の作製法の特長は,レーザを照射したターゲットより数10 μm径の粒子を故意に創出させる点にある。一方,大きな膜厚分布が課題であり,成膜後のポリッシングによる表面研磨で,膜厚を均一化してきた。我々は,成膜の進行に伴い,粒子が基板上に堆積する際の指向性が強まる結果生じる膜厚分布の原因として,「回転させた磁石ターゲットの一点にレーザを照射する」ためと考えた。本研究では,「ガルバノミラーを用い,ターゲット表面へのレーザ照射位置の制御(走査)」によりNd-Fe-B合金ターゲットの広範囲にわたる利用と厚膜磁石の膜厚分布の低減を検討した。
本誌掲載ページ: 116-117 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 358 Kバイト
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