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結晶異方性シリコンドライエッチングを用いた斜めはり構造

結晶異方性シリコンドライエッチングを用いた斜めはり構造

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カテゴリ: 全国大会

論文No: 3-113

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Silicon MEMS Slanted-Beam Structure Fabricated by Crystal Anisotropic Dry Etching

著者名: 岩成優(兵庫県立大学),前中一介(兵庫県立大学),神田健介(兵庫県立大学)

著者名(英語): Yu Iwanari (University of Hyogo),Kazusuke Maenaka (University of Hyogo),Kensuke Kanda (University of Hyogo)

キーワード: エナジーハーベスティング|斜めはり|結晶異方性ドライエッチング|無指向性|Energy harvesting|Slanted-Beam|Crystal Anisotropic Dry Etching|Omni directional

要約(日本語): 一般的な平板型の片持ちはり構造のMEMS振動型エナジーハーベスタは発電可能な振動方向がはり形状に依存して単一軸方向に限定されるため,その多軸化,無指向性化が模索されている。無指向性化のためには単純には1軸のデバイスを3つ直交させて配置し発電電力を合成する手法があるが,複数のデバイスで発電する場合それらの交流電力を整流・合成する必要があり,その際に位相の調整や電力ロスが発生する。そこで我々は斜めはりにより入力振動の方向とはりの運動方向を変換する無指向性振動型エナジーハーベスタを目指し,それに用いる斜めはりを結晶異方性ドライエッチングで作製する方法を提案する。

本誌掲載ページ: 160-162 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 465 Kバイト

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