半導体露光装置ウエハステージ用高推力リニア同期モータの推力リップル率低減

カテゴリ: 全国大会

論文No: 5-003

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Thrust Ripple Reduction of High Thrust Linear Synchronous Motor for Semiconductor Lithography Wafer Stage

著者名: 横山空羅（九州大学）,佐々滉大（九州大学）,吉田敬（九州大学）

著者名(英語): Sora Yokoyama (Kyushu University),Hiromasa Sasa (Kyushu University),Takashi Yoshida (Kyushu University)

キーワード: 半導体露光装置|リニア同期モータ|Semiconductor lithography equipment|Linear Synchronous Motor

要約(日本語): 現在，世界的に半導体需要が増大しており，半導体製造装置のスループット向上が求められている。半導体製造工程において用いられる半導体露光装置はウェハー位置が露光光源に対して相対的に移動することにより走査状に露光が実行される。先行研究ではこのウェハステージの動力として加速度100Gで動作する永久磁石リニア同期モータの設計を行った。しかし，現モデルは推力リップル率が高く精密な位置決め精度が求められるウェハステージへの使用には推力安定性の向上が必要不可欠である。そこで本研究では，リニア同期モータの推力リップル低減を目指し，現行モデルのポールピッチを変化させ解析を行った。

本誌掲載ページ: 5-6 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 345 Kバイト