ドライエア中アーク消弧過程への高分子分解蒸気混入下における反応生成物および耐電界特性 -30%CH2O混入-

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-017

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル：ドライエア中アーク消弧過程への高分子分解蒸気混入下における反応生成物および耐電界特性 -30%CH₂O混入-

タイトル(英語): Reaction products and withstanding electric field property in high temperature dry air mixed with polymer vapor decomposition -30% CH₂O vapor mixture-

著者名: 山本伊織（名古屋大学）,横水康伸（名古屋大学）,兒玉直人（名古屋大学）,内山隼輔（名古屋大学）,江戸貴広（三菱電機）

著者名(英語): Iori Yamamoto (Nagoya University),Yasunobu Yokomizu (Nagoya University),Naoto Kodama (Nagoya University),Syunsuke Uchiyama (Nagoya University),Takahiro Edo (Mitsubishi Electric Corp.)

キーワード: SF6代替ガス|ドライエア|CH2O溶発蒸気|耐電界特性|反応生成物|SF6 Alternative Gas|Dry Air|CH2O Vapor Decomposition|Electric Field Resistance|Reaction product

要約(日本語): 電力機器の分野では，SF₆代替ガスとして，CO₂ガスあるいはN₂/O₂混合ガスに，高い絶縁耐力を持つC5-FKなどを添加することが検討されてきた。我々の研究プロジェクトでは，遮断器・断路器でのアーク消弧過程で形成される高温ガスを対象とし，第1フェーズでは，HFO-1336mzz（E）（化学式 C₄H₂F₆）などを添加した消弧ガスを検討してきた。本研究の第2フェーズでは，HFO系ガスのような非自然系ガスを無混合とする消弧ガス，すなわち自然由来ドライエアを消弧ガスとし，高分子材からの溶発蒸気が混入した高温ドライエアを検討している。本稿では，高分子材としてPOM（化学式（CH₂O）_n）を取り上げ，温度3000~300KにおけるCH₂O分解蒸気が混入した高温ドライエアでの反応生成物および耐電界特性を述べる。

本誌掲載ページ: 22-23 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 228 Kバイト