低電圧DC限流遮断プロセスにおけるアーク抵抗増加の出現域と高分子材配置による早期化

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-040

グループ名: 【全国大会】令和6年電気学会全国大会論文集

発行日: 2024/03/01

タイトル(英語): Increase emergence domain of arc resistance during low voltage DC interruption and its forwardness due to polymer plate arrangement

著者名: 清水翔太（名古屋大学）,横水康伸（名古屋大学）,兒玉直人（名古屋大学）,岩田幹正（名古屋大学）,内山隼輔（名古屋大学）,酒井智康（日東工業）,塚原正浩（日東工業）,宮本淳史（日東工業）

著者名(英語): Shota Shimizu (Nagoya University),Yasunobu Yokomizu (Nagoya University),Naoto Kodama (Nagoya University),Mikimasa Iwata (Nagoya University),Shunsuke Uchiyama (Nagoya University),Tomoyasu Sakai (Nitto Kogyo),Masahiro Tsukahara (Nitto Kogyo),Atsushi Miyamot

キーワード: 直流限流遮断|アーク抵抗|高分子材|配線用遮断器|DC interruption|arc resistance|polymer|molded case circuit breaker

要約(日本語): 低電圧直流給配電システムの利用は，インターネットデータセンタなどの需要家において広がっている。低電圧直流給配電システムでは，配線用遮断器が設置され，アーク電圧の上昇によって DC を限流し続け，ひいては DC を遮断することが求められる。筆者らは，実験用アーク弧装置を用いた DC 限流遮断実験を行い，アーク電圧の上昇要因を分析するとともに，アーク消弧時間の短縮を検討している。本報告では，高分子材配置下における DC 限流遮断プロセスにおけるアーク抵抗の時間変化と電極間距離の伸長とからアーク電圧の上昇過程を考察するとともに，DC アーク消弧時間を述べている。

本誌掲載ページ: 49-50 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 331 Kバイト