タンデム型変調誘導熱プラズマにおけるトーチ中段からのArガス導入法がSiナノ粒子生成に与える影響の数値解析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-077

グループ名: 【全国大会】令和7年電気学会全国大会論文集

発行日: 2025/03/01

タイトル(英語): Numerical Simulation on Influence of Intermittent Introduction of Ar Gas from Middle Flange of Plasma Torch on Si Nanoparticle Production in Tandem Modulated Induction Thermal Plasmas

著者名: 小林義隆（金沢大学）,岡野里桜（金沢大学）,田中伶郎（金沢大学）,田中康規（金沢大学）,石島達夫（金沢大学）,中野裕介（金沢大学）,末安志織（日清製粉グループ本社）,渡邉周（日清製粉グループ本社）,中村圭太郎（日清製粉グループ本社）

著者名(英語): Noritaka Kobayashi (Kanazawa University),Rio Okano (Kanazawa University),Reo Tanaka (Kanazawa University),Yasunori Tanaka (Kanazawa University),Tatsuo Ishijima (Kanazawa University),Yusuke Nakano (Kanazawa University),Shiori Sueyasu (Nisshin Seifun Group

キーワード: プラズマ|ナノ粒子|数値解析|plasma|nano particles|numerical simulation

要約(日本語): 筆者らは2つのコイルとRF電源を用いて時空間に変調可能な温度場を生成するタンデム型パルス変調誘導熱プラズマ(Tandem-PMITP)と，原料粉体の時間制御供給(TCFF)法を用いたナノ粒子大量生成手法に対し数値解析モデルを開発してきた。Tandem- PMITPにおいて，上段コイルの種火プラズマの安定性向上および下段コイル電流変調による熱プラズマ温度のさらなる精密制御を目的として，2つのコイル間からのArやH2の導入が可能な中段フランジの挿入を検討している。本稿ではトーチ中段フランジからArガスを連続・

本誌掲載ページ: 94-95 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 678 Kバイト