ダイヤモンド膜成長用変調誘導熱プラズマにおける原料CH4ガス間歇供給遅れ時間が照射ラジカルに与える影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 1-079

グループ名: 【全国大会】令和7年電気学会全国大会論文集

発行日: 2025/03/01

タイトル：ダイヤモンド膜成長用変調誘導熱プラズマにおける原料CH₄ガス間歇供給遅れ時間が照射ラジカルに与える影響

タイトル(英語): Influence of Delay Time of Intermittent Injection of CH4 Gas on Irradiated Radicals in Modulated Induction Thermal Plasma for Diamond Film Fabrication

著者名: 松田航征（金沢大学）,細井大和（金沢大学）,田中康規（金沢大学）,中野裕介（金沢大学）,石島達夫（金沢大学）

著者名(英語): Kosei Matsuda (Kanazawa University),Yamato Hosoi (Kanazawa University),Yasunori Tanaka (Kanazawa University),Yusuke Nakano (Kanazawa University),Tatsuo Ishijima (Kanazawa University)

キーワード: プラズマ|ダイヤモンド|分光観測|plasma|diamond|spectroscopic observation

要約(日本語): 筆者らは，独自開発した変調型誘導熱プラズマ(MITP)照射による単結晶ダイヤモンド膜の高速成長を検討している。MITPでは，入力電流波形を任意に変調することで基板に照射する熱流束・ラジカル粒子束を詳細に制御できる。本報ではコイル電流を周期15 msの鋸波変調するのに加えて，原料CH₄ガス間歇供給のタイミングを電流変調周期の15 msの1/8である1.875 msずつずらした場合のAr/CH₄/H₂ MITPの時分解発光分光観測を行い, 基板

本誌掲載ページ: 96-97 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 426 Kバイト