各種フッ素系液体の分子記述子と絶縁破壊強度の相関係数の調査
各種フッ素系液体の分子記述子と絶縁破壊強度の相関係数の調査
カテゴリ: 全国大会
論文No: 2-028
グループ名: 【全国大会】令和7年電気学会全国大会論文集
発行日: 2025/03/01
タイトル(英語): Investigation of Correlation Coefficients Between Molecular Descriptors and Dielectric Breakdown Strength of Various Fluorinated Liquids
著者名: 末永翔大(九州工業大学),泊岩龍斗(九州工業大学),岡本空大(九州工業大学),土江基夫(九州工業大学),河野翔也(九州工業大学),匹田政幸(九州工業大学),小迫雅裕(九州工業大学)
著者名(英語): Shota Suenaga (Kyushu Institute of Technology),Ryuto Tomaiwa (Kyushu Institute of Technology),Takahiro Okamoto (Kyushu Institute of Technology),Motoo Tsuchie (Kyushu Institute of Technology),Shoya Kawano (Kyushu Institute of Technology),Masayuki Hikita (K
キーワード: フッ素系液体|絶縁液体|絶縁破壊電圧|SMILES|分子記述子|Fluorinated Liquids|Insulating Liquids|Breakdown Voltage|SMILES|Molecular Descriptors
要約(日本語): 本報の目的は,フッ素系液体において絶縁破壊電圧に影響を与える分子構造上の因子を調査することである。本報では,8種のフッ素系液体の電極間隔1mmにおける絶縁破壊電圧および分子構造のSMILES表記から計算した210個の分子記述子との相関係数を求め,その調査結果について報告する。結果として,HallKierAlphaおよびFpDensityMorgan2は高い相関を示すことがわかった。このことから,比較的シンプルな分子骨格(直線的または対称性が高い)を持ち,過度に分岐・複雑化していない一方で,電子密度の偏りが
本誌掲載ページ: 30-31 p
原稿種別: 日本語
PDFファイルサイズ: 779 Kバイト
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