薄膜素子のジュール加熱における熱分布と隣接素子への影響

カテゴリ: 全国大会

論文No: 2-059

グループ名: 【全国大会】令和7年電気学会全国大会論文集

発行日: 2025/03/01

タイトル(英語): Thermal distribution effects on adjacent elements in Joule heating method

著者名: 川崎萩人（岩手大学）,菊池弘昭（岩手大学）

著者名(英語): Kawasaki Shuto (Iwate University),Kikuchi Hiroaki (Iwate University)

キーワード: 薄膜|ジュール加熱|磁気異方性|磁区|Thin films|Joule heating|Magnetic anisotropy|Magnetic domains

要約(日本語): 本研究では磁気インピーダンス（MI）素子における磁気異方性制御法としてジュール加熱を利用する際の熱分布および隣接素子への影響を検討した。素子間隔10 μm~300 μmのMI素子を2つ用意し，磁石を用いて幅方向に磁場を印加し，片方の素子にのみジュール加熱処理をおこなった。結果，素子間隔が近い10 μmでは熱伝達が顕著で非加熱側の隣接素子においても，加熱側の素子と同様にインピーダンス特性が二峰性に変化した。これは加熱側の素子からの熱伝達が十分に大きく，ある程度発熱しているためである。対して，300 μmの間

本誌掲載ページ: 63-64 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 529 Kバイト