真空アーク電子密度のタルボ効果を用いた高感度測定

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-027

グループ名: 【全国大会】令和7年電気学会全国大会論文集

発行日: 2025/03/01

タイトル(英語): Highly sensitive measurement of vacuum arc electron density by Talbot effect

著者名: 沖蒼一郎（東京大学）,髙林拓海（東京大学）,佐藤正寛（東京大学）,梅本貴弘（東京大学）,熊田亜紀子（東京大学）

著者名(英語): Soichiro Oki (The University of Tokyo),Takumi Takabayashi (The University of Tokyo),Masahiro Sato (The University of Tokyo),Takahiro Umemoto (The University of Tokyo),Akiko Kumada (The University of Tokyo)

キーワード: タルボ効果|真空アーク|電子密度|拡散モード|複スリット|Talbot effect|vacuum arc|electron density|diffuse mode|slits

要約(日本語): 真空遮断器の大容量化には実測に基づく真空アーク放電の現象解明が必須である。しかし二次元電子密度分布は未だ十分な測定結果が得られておらず，現状の測定法では拡散モードの真空アークの電子密度測定は困難であるため高感度化が求められる。本研究では複スリット透過時のタルボ効果を適用し，電極間プラズマによる複スリット自己像の移動量を基に，二次元電子密度分布を計算した。高電子密度の領域では理論値と計算結果がよく一致し，理論値5×10¹⁹[m^-3] となる位置では計算結果が最大でも2.8倍に抑えられたことから，電子密度10¹⁹ m^-3 オーダーへの高感度化が見込まれる。一方で，濃度勾配が大きいところでは誤差が大きく，測定座標周囲での補間が必要である。

本誌掲載ページ: 34-35 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 464 Kバイト