低電圧DC限流遮断プロセスにおける高分子材配置下でのアーク抵抗上昇要因の基礎分析

カテゴリ: 全国大会

論文No: 6-032

グループ名: 【全国大会】令和7年電気学会全国大会論文集

発行日: 2025/03/01

タイトル(英語): Fundamental Analysis of Arc-Resistance Rising Factor for Polymer Arrangements During Low Voltage DC Interruption

著者名: 清水翔太（名古屋大学）,横水康伸（名古屋大学）,兒玉直人（名古屋大学）,岩田幹正（名古屋大学）,中村綾花（名古屋大学）,宮本淳史（日東工業）,酒井智康（日東工業）,塚原正浩（日東工業）

著者名(英語): Shota Shimizu (Nagoya University),Yasunobu Yokomizu (Nagoya University),Naoto Kodama (Nagoya University),Mikimasa Iwata (Nagoya University IMaSS),Ayaka Nakamura (Nagoya University IMaSS),Atsushi Miyamoto (Nitto Kogyo),Tomoyasu Sakai (Nitto Kogyo),Masahiro Tsukahara (Nitto Kogyo)

キーワード: 直流限流遮断|アーク抵抗|高分子材|配線用遮断器|低電圧|DC interruption|arc resistance|polymer|molded case circuit breaker|low voltage

要約(日本語): 低電圧直流給配電システムの利用は，インターネットデータセンタなどの需要家において広がっている。低電圧直流給配電システムに設置される配線用遮断器は，アーク電圧・抵抗の上昇によってDCを限流し続け，ひいてはDCを遮断することが求められる。筆者らは，実験用アーク消弧装置を用いたDC限流遮断実験を行い，アーク遮断時間の短縮を検討するとともに，アーク抵抗の上昇要因の分析を進めている。本報告では，2種類の高分子材配置条件下でのDC限流プロセスおよびアーク抵抗の上昇推移を述べている。次いで，アーク抵抗上昇の主な要因を電極間距離，アーク断面積およびアーク抵抗率の観点から考察している。

本誌掲載ページ: 39-40 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 292 Kバイト