GCIBエッチングを用いたSiNx膜の極薄化と液体セル電子透過窓への適用

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: OQD23051

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門 光・量子デバイス研究会

発行日: 2023/12/24

タイトル(英語): Ultra-thinning of SiNx films using GCIB etching and application to electron transmission window of liquid cell

著者名: 竹内 雅耶(兵庫県立大学),豊田 紀章(兵庫県立大学)

著者名(英語): Masaya Takeuchi(University of Hyogo),Noriaki Toyoda(University of Hyogo)

キーワード: ガスクラスターイオンビーム|窒化シリコン|エッチング|Gas cluster ion beam|Silicon nitride|Etching

要約(日本語): 本研究では、ガスクラスターイオンビーム（GCIB）を用いて、液体を真空中で封止しXPS・SEMなどで液体の直接観察を可能にするための溶液セルの電子透過窓（SiNxメンブレン）の極薄化を行う。GCIBの有する低損傷照射効果を利用し、極薄SiNx膜の耐圧性を保持したままエッチング行い、その照射効果の解明を行う。また、実際にその極薄膜を電子透過窓へ適用し、液体サンプルの高感度検出の実証を行う。

要約(英語): In this study, we utilize the low-damage irradiation effect of GCIB to etch ultra-thin SiNx films while maintaining their pressure resistance, and elucidate the irradiation effect. We also apply the ultra-thin film to a electron transmission window to demonstrate high-sensitivity detection of liquid samples.

本誌: 2023年12月27日光・量子デバイス研究会

本誌掲載ページ: 5-8 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 506 Kバイト