mist-CVD法によるカーボンナノチューブフォレストへの均質シリカ誘電膜形成

カテゴリ: 研究会(論文単位)

論文No: DEI24004,EPP24004,HV24004

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門 誘電・絶縁材料/【A】基礎・材料・共通部門 放電・プラズマ・パルスパワー/【B】電力・エネルギー部門 高電圧合同研究会

発行日: 2024/01/16

タイトル(英語): Homogeneous silica dielectric layer coating on carbon nanotube forest by mist-CVD method

著者名: 西田 和生(静岡大学),中野 貴之(静岡大学),井上 翼(静岡大学)

著者名(英語): Kazuki Nishita(Shizuoka University),Takayuki Nakano(Shizuoka University),Yoku Inoue(Shizuoka University)

キーワード: カーボンナノチューブ|誘電材料|シリカ|複合材料|Ｍｉｓｔ－ＣＶＤ|リチウムイオン電池|Carbon nanotube|Dielectric material|Silica|Composite material|Mist-CVD|Lithium-ion battery

要約(日本語): カーボンナノチューブ（CNT）は電子輸送特性・比表面積の高さから、リチウムイオン電池負極の開発が進められている。シリコンは既存材料の中で最も容量が高く、CNTと複合化することで、更なる容量増加が期待される。そのためには、複雑なナノ構造に対して均質に複合化することが必要となる。本研究では、CNTが垂直配向した集合体であるCNTフォレストにmist-CVD法により均質シリカ誘電膜の形成を試みた。

要約(英語): Carbon nanotube (CNT) is useful as lithium-ion battery anode materials. Composite of CNT and silicon is expected to increase capacity. Therefore, it is necessary to homogeneously composite complex nanostructure. We investigated the coating of homogeneous silica layer on CNT forests, which are vertically aligned aggregates of CNTs, by mist-CVD method.

本誌: 2024年1月19日-2024年1月20日誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会-1

本誌掲載ページ: 19-21 p

原稿種別: 日本語

PDFファイルサイズ: 1,953 Kバイト