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光応用・視覚技術分野の動向と最前線

光応用・視覚技術分野の動向と最前線

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カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【A】基礎・材料・共通部門

発行日: 2016/01/01

タイトル(英語): Recent Topics in Light Application and Visual Science

著者名: 篠田 之孝(日本大学理工学部電気工学科)

著者名(英語): Yukitaka Shinoda (College of Science and Technology, Nihon University)

キーワード: リソグラフィ,ムーアの法則,極端紫外,ナノアブレーション,アブレーション閾値,反応収量  lithography,Moore's law,extreme ultra violet,nano-ablation,ablation threshold,photoreduction yield

要約(英語): Activities of the technical committee on light application and visual science (TC-LAV) have been covering various kinds of application of optical engineering in the wavelength region from far-infrared (THz-wave) to extreme ultraviolet and fields of information processing of visual sense.

本誌: 電気学会論文誌A(基礎・材料・共通部門誌) Vol.136 No.1 (2016) 特集:2016年基礎材料分野の研究開発の動向

本誌掲載ページ: 2023/04/06 p

原稿種別: 解説/日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejfms/136/1/136_4/_article/-char/ja/

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