トリメチルアルミニウム/エタノールの組み合わせによる有機無機ハイブリッド薄膜の室温分子層堆積

カテゴリ: 論文誌(論文単位)

グループ名: 【C】電子・情報・システム部門

発行日: 2021/04/01

タイトル(英語): Room-temperature Molecular Layer Deposition of Organic-inorganic Hybrid Thin Films by Trimethylaluminum/Ethanol Combination

著者名: 熊谷　寛（北里大学医療衛生学部臨床工学専攻），児玉　純一（北里大学理学部化学科），加藤　誠（北里大学理学部化学科），市川　翔太（北里大学理学部化学科），佐藤　崇信（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン（株）），小池　隆一（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン（株）），鈴木　道夫（ジェー・エー・ウーラム・ジャパン（株）），石川　春樹（北里大学理学部化学科）

著者名(英語): Hiroshi Kumagai (School of Allied Health Sciences, Kitasato University), Junichi Kodama (School of Science, Kitasato University), Makoto Kato (School of Science, Kitasato University), Shota Ichikawa (School of Science, Kitasato University), Takanobu Sato

キーワード: トリメチルアルミニウム，エタノール，有機無機ハイブリッド薄膜，分子層堆積　　trimethylaluminum，ethanol，organic-inorganic hybrid thin film，molecular layer deposition

要約(英語): Atomic layer deposition (ALD), which is a type of chemical vapor deposition, has realized ultra-thin film deposition of inorganic materials and growth of conformal layer films by using a continuous automatic stop function. In this study, we focused on the molecular layer deposition (MLD) method that enables the deposition of thin films of organic and organic-inorganic hybrids by taking advantage of the features of ALD. By using trimethylaluminum (TMA) and ethanol (EtOH) as starting materials, we succeeded in the molecular layer deposition of thin films of organic-inorganic hybrids at room temperature, and the deposition density was improved by comparison with atomic layer deposition of TMA and water vapor.

本誌: 電気学会論文誌C（電子・情報・システム部門誌） Vol.141 No.4 （2021） 特集：量子・情報・エレクトロニクス医療インタフェース

本誌掲載ページ: 568-569 p

原稿種別: 研究開発レター／日本語

電子版へのリンク: https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejeiss/141/4/141_568/_article/-char/ja/